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据新华网援引《证券日报》消息称，上海微电子在28nm浸没式光刻机的研发上取得重大突破，预计在2023年年底向市场交付国产的第一台ssa/800-10w光刻机设备。据传此代光刻机类似于阿斯麦的duv2000i，但指标要比2000i高一些，通过工艺优化可以做到7nm集成电路制程，目前已经跑线一年，从定型来看，也预期于年底会批量生产。